Felületi morfológia jellemzés
Sík minták felületi morfológiájának több nagyságrenden átívelő vizsgálata. A minták felszínét a milliméter nagyságrendtől a mikrométeres és akár nanométeres laterális felbontás tartományig vizsgálhatjuk. A kisebb nagyításokhoz optikai kutatómikroszkópok állnak rendelkezésre, míg 100 um-10 nm-es tartományban nagyfelbontású atomi erő mikroszkópiát alkalmazunk. Az atomi erő mikroszkóp a pásztázó tűszondás képalkotó módszerek családjába tartozik. A minta felületéről előállított kép vertikális irányban angströmös, laterális irányban nanométeres felbontásban tükrözi a minta és a pásztázó tű között fellépő kölcsönhatásokat. A mérések elvégzésére különböző üzemmódok állnak rendelkezésre (kontakt / C-AFM, „true non-contact” / NC-AFM, erőmodulációs FMM). A minta felületéről a topográfia mellett az anyagi tulajdonságokra is kaphatunk információt, így súrlódási együtthatóbeli különbségek, keménység, Young-modulusz.
Kapcsolat: Prof. Kiss Éva, kisseva (at) caesar.elte.hu
|
|
|