Error message

  • Deprecated function: implode(): Passing glue string after array is deprecated. Swap the parameters in drupal_get_feeds() (line 394 of /afs/elte.hu/org/nanolab/nanolab.elte.hu/includes/common.inc).
  • Deprecated function: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in menu_set_active_trail() (line 2405 of /afs/elte.hu/org/nanolab/nanolab.elte.hu/includes/menu.inc).

A Hatérfelületi- és Nanoszerkezetek Laboratórium gondozásában álló műszerek, elérhető technikák, vizsgálati módszerek

 

Atomi erő mikroszkópia    Csepp-profil analízis    Dinamikus fényszóródás

AFM

Az atomi erő mikroszkópia a pásztázó tűszondás mikroszkópok családjának legfontosabb tagja. Alkalmazásával a minták morfológiája szubmikronos felbontásban tanulmányozható.

 

Csepp-profil analízis

Folyadék cseppek alakjának meghatározásával kis minta térfogatok segítségével mérhetjük a felületi- és határfelületi feszültséget, illetve szilárd minták nedvesedési tulajdonságait.

 

Fényszóródás

A DLS segítségével a részecskék fluid közegbeli diffúziós együtthatója és ezen keresztül az átlagos hidrodinamikai mérete és polidiszperzitás indexe határozható meg. 

Zeta-potenciál mérés   Fajlagos felület mérés   Langmuir-mérleg

zeta potenciál

A kolloid részecskék folyadékbeli elektroforetikus mobilitás mérésén keresztül meghatározhatjuk a zeta-potenciált, ami a részecskék felületi töltésével áll kapcsolatban.

 

NMR relaxometria

Az NMR relaxometrián alapuló technika segítségével tömény szuszpenziókból, folyadék közegben határozhatjuk meg a részecskék fajlagos felületét.                                    

 

Langmuir mérleg

A Langmuir-mérleg lehetővé teszi a folyadék-gáz határfelületen kialakuló molekuláris filmek szerkezeti vizsgálatát és a filmben lezajló változások időbeli követését.

Tenziométer   Kvarckristály mikromérleg   UV-Vis reflektométer

Du Nouy tenziométer

A nedvesedési erő mérésén alapuló módszer segítségével folyadék-gáz, illetve folyadék-folyadék határfelületi feszültség mérése, valamint szilárd felületek nedvesedése határozható meg.

 

QCM szenzor

A kvarckristály mikromérleg a szenzor felületén bekövetkező tömegváltozások nagy érzékenységű nyomonkövetésén keresztül lehetővé teszi az adszorpciós folyamatok vizsgálatát. 

 

Reflektometria

A fény reflexió hullámhossz függő meghatározásával a reflektáló felületen kialakuló vékonyrétegek vastagságának nagy pontosságú meghatározása valósítható meg.

UV-Vis spektroszkópia   Fluoreszcens spektroszkópia   PM-IRRAS

UV-Vis spektroszkópia

Az UV-látható tartományba eső fény elnyelésén alapuló méréstechnikákkal rutinszerűen lehet meghatározni anyagok mintabeli koncentrációját.                                                

 

Fluoreszcencia

A fluoreszcens molekulák, részecskék fluoreszcenciájának meghatározásával koncentráció meghatározás mellett a mintákban bekövetkező szerkezeti átalakulások is nyomonkövethetők.

 

PM-IRRAS

A polarizáció modulációs infravörös reflexiós-abszorbciós spektroszkópia segítségével szilárd-levegő, illetve folyadék-levegő határfelületi filmek kémiai és szerkezeti tulajdonságai vizsgálhatóak. 

Plazma kezelés   Mikrofluidika   Mikrohullámú reaktor

Levegő plazma

Plazma kezelés segítségével nagy tisztaságú felületek állíthatók elő reprodukálható módon. Emellett a plazmában lévő reaktív gyököknek köszönhetően a felületek kémiai aktiválása is megvalósítható.

 

Mikrofluidikai reaktor

Mikrofluidikai körülmények között folyamatos anyagáramlás mellett lehet kémiai, fizikai-kémiai folyamatokat megvalósítani, lehetővé téve "lab-on-a-chip" eljárások kifejlesztését.                             

 

Mikrohullámú reakciók

Mikrohullámú sugárzással nagy sebességű, a hagyományos módszerekhez képest szelektívebb, kevesebb melléktermékhez vezető reakciókat lehet kivitelezni hidro-, illetve szolvotermális körülmények között.